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北京CULTRA EDI设备-北京半导体用水设备-莱特莱德**提供电厂除盐水站、电子半导体**纯水系统! 北京CULTRA EDI设备,北京半导体用水设备,北京线路板清洗用水设备 概述: EDI(Electro deionization)是一种具有革命性意义的水处理技术,它巧妙地将电渗析技术和离子交换技术相融合,*酸碱,而能连续制取**纯水。它具有技术先进、操作简便、良好的环保特性,代表着一种行业方向,能广泛应用于电力、医药、化工、电子等行业。它的出现是水处理技术的一次革命性的进步,标志着水处理工业较终全面跨入绿色产业的行列。 **纯水的整个工艺流程是先经过预处理,然后加药杀毒,再经过RO反渗透系统,再使用EDI设备制取**纯水。 由于**纯水对水质的BOD和TOC等物质的含量要求比较高,所以一般会采取二级反渗透,后面的工艺比较多的采取了EDI的技术,在纯水制备技术上EDI比较有优势。 EDI作为制取**纯水的设备,作为反渗透设备后的二次除盐设备,可以制取出高达10-18.2MΩ.CM。EDI设备*化学药剂的再生,可以连续运行。在具体的应用中,仅调节EDI的运行电流就可以改变其出水水质。因此广泛用于微电子工业,半导体工业,发电工业,制药行业和实验室。也可以作为制药蒸馏水、食物和饮料生产用水、发电厂的锅炉的补给水,以及其它应用**纯水。 连续电除盐(EDI,Electro deionization或CDI,continuous electrode ionization),是利用混和离子交换树脂吸附给水中的阴阳离子,同时这些被吸附的离子又在直流电压的作用下,分别透过阴阳离子交换膜而被除去的过程。这一过程离子交换树脂是电连续再生的,因此不需要使用酸和碱对之再生。这种新技术可以替代传统的离子交换装置,生产出高达18M-CM的**纯水。又可以比较清晰地描述:EDI是利用阴、阳离子膜,采用对称堆放的形式,在阴、阳离子膜中间夹着阴、阳离子树脂,分别在直流电压的作用下,进行阴、阳离子交换。而同时在电压梯度的作用下,水会发生电解产生大量H+和OH-,这些H+和OH-对离子膜中间的阴、阳离子不断地进行了再生。由于EDI不停进行交换——再生,使得纯水度越来越高,所以,轻而易举的产生了高纯度的**纯水。 EDI技术是由电渗透和离子交换**结合形成的一种新型膜分离技术。借助离子交换树脂的离子交换作用与阴、阳离子交换膜对阴、阳离子的选择性透过作用,在直流电场的作用下,实现离子定向迁移,从而完成水的深度除盐。由于离子交换、离子迁移及离子交换树脂的电再生相伴发生,犹如一个边工作边再生的混床离子交换树脂柱,可以连续不断地制取高质量的纯水、高纯水,因而又称连续去离子(continuous deionization,简称CDI)。 高纯水处理设备特点 为满足用户需要,达到符合标准的水质,尽可能地减少各级的污染,延长设备的使用寿命、降低操作人员的维护工作量.在工艺设计上,取达地区自来水标准的水为源水,纯水系统设有介质过滤器,活性碳过滤器,钠离子软化器、精密过滤器等预处理系统、RO反渗透主机系统、离子交换混床(EDI电除盐系统)系统等。 **纯水处理系统中水箱均设有液位控制系统、水泵均设有压力保护装置、在线水*测控制仪表、电气采用PLC可编程控制器,真正做到了无人职守,同时在工艺选材上采用**和客户要求相统一的方法,使设备与其它同类产品相比较,具有更高的性价比和设备**性。 通常将板式EDI,系统俞中的水流分成产品水流、脓水水”回流到反渗透装置的进水中和较水水流,其工作状况如下: (1)淡水水流。在EDI中,90 %到95%的水流过淡水室,水流并联通过多个膜堆,每个膜堆都并联很多个淡水室,水流一次性的通过淡水室,流出来的就是高纯水,模块在低于设备较小产水量情况下工作时,模块内会发生局部过热现象,导致外部损伤及裂痕。 (2)浓水水流。进水中另外的5%-10%被送到浓水室,其中3%-8%流出EDI后作为RO系统补充水回收利用;通常EDI排放的浓水质量**反渗透装置的进水,所以将浓水回流到反渗透装置的进水中可使整个EDI系统回收率提升至98%。回收率由进水硬度水平决定,即回收率二淡水产水量/(淡水产水量+浓水排放量+较水出口流量)×**浓水湘敝量士淡水产水量/回收率× 100—较水出口流量一淡水产水量 (3)较水水流。较水水流由淡水水流进口的分支形成,一般电极水的流量是进水的1%左右。送到浓水室的淡水中用来冲洗电极。较水水流流经电极用以冷却电极并带走在较水室内产生的所有气体(氢气、氧气及可能存在的氯气),所以较水水流**排人通风的排水管中,在排放时需要放气,要确保通风良好以使氢气含量低于4%。由于氯气溶人较水中,当电极水过小时,不能及时带走电极表面的气体,会影响整个模块的运行,较水流量很小并在通风的自流排水管中,因此较水不再循环使用。 北京CULTRA EDI设备,北京半导体用水设备,北京线路板清洗用水设备 典型工艺流程 预处理系统-反渗透系统-中间水箱-粗混合床-精混合床-纯水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-抛光混床-精密过滤器-用水对象(≥18MΩ.CM)(传统工艺) 预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-抛光混床-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象(≥18MΩ.CM)(较新工艺) 预处理-一级反渗透-加药机(PH调节)-中间水箱-*二级反渗透(正电荷反渗膜)-纯水箱-纯水泵-EDI装置-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象(≥17MΩ.CM) 冶金化工行业,**纯水设备,纯水处理系统,水处理,**纯水 较新工艺 预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象(≥15MΩ.CM)(较新工艺) 预处理系统-反渗透系统-中间水箱-纯水泵-粗混合床-精混合床-紫外线杀菌器-精密过滤器-用水对象(≥15MΩ.CM)(传统工艺) 应用范围概述 冶金化工用**纯水设备常用于钨酸氨、金属钨粉、钨棒等钨冶金行业;钼酸氨、金属钼钒等贵金属冶金;化肥及精细化工生产用纯水、**纯水。 北京CULTRA EDI设备,北京半导体用水设备,北京线路板清洗用水设备 我们将继续坚持以产品质量为根本,科学进步为导向,科技人才为根基,优良售后服务为天职。始终把用户利益放在**位,“品质是企业生存之本,服务是**发展之根” 提供*技术,奉献*服务,竭诚合作共创辉煌!