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北京电镀涂装用**纯水设备-北京半导体用水设备-莱特莱德坚持以产品质量为根本,科学进步为导向,科技人才为根基,优良售后服务为天职! 北京电镀涂装用**纯水设备,北京半导体用水设备,北京晶片切割用高纯水设备 EDI工作原理: EDI模块将阴阳离子交换树脂充充在阴/阳离子交换膜之间形成EDI单元。EDI模块中将一定数量的EDI单元间用浓淡水格板隔开,分别形成浓水室和淡水室。并在单元组两端设置阴/阳电极。在直流电流的推动下,通过淡水室水流中的阴阳离子分别穿过阴阳离子交换膜进入到浓水室,从而阴阳离子从淡水室中去除。并通过浓水室的水将离子带出系统,成为浓水. EDI设备一般以二级反渗透(RO)纯水作为EDI给水。二级反渗透(RO)纯水电阻率一般是10-2μS/cm(25℃)。EDI出水电阻率可以高达18MΩ.cm(25℃),但是根据去离子水用途和系统配置设置,EDI**纯水适用于制备电阻率要求在1-18.2MΩ.cm(25℃)的纯水。 EDI纯水装置优势 : ◆ 占地空间小,省略了混床和再生装置; ◆ 产水连续稳定,出水质量高,而混床在树脂临近失效时水质会变差; ◆ 运行费用低,再生只耗电,不用酸碱,节省材料费用; ◆ 环保效益显着,增加了操作的安全性; 设备运行参数: 单机出力:0.5M3/h-120M3/h 脱盐率:98% 操作压力:1Mpa-1.2Mpa 回收率:60%-80% 产品出水阻导率:18兆欧以上。 EDI**纯水工艺流程:原水箱---原水泵---砂滤器---碳滤器---软水器---一级反渗透主机--中间水箱---中间水泵---二级反渗透主机--中间水箱---中间水泵-脱气装置---EDI系统---核子级树脂---**纯水箱 北京电镀涂装用**纯水设备,北京半导体用水设备,北京晶片切割用高纯水设备 应用领域: ★ 电厂化学水处理 ★ 电子、半导体、精密机械行业**纯水 ★ 制药工业工艺用水 ★ 食品、饮料、饮用水的制备 ★ 海水、苦咸水的淡化 ★ 小型纯水站,团体饮用纯水 ★ 精细化工、精尖学科用水 ★ 制取低压锅炉用水 ★ 电渗析和离子交换法联合使用,制取蒸馏水、高纯水、**纯水,这种制水 方法可节约酸碱,避免树脂的频繁再生,并大大降低制水成本; ★ 联合其他不同的处理单元,可制成满足电子、医药、食品、化工等更** 次的行业用水 ★ 电镀、电子等工业废水(液)中Ag、Au、Cu等贵重金属的回收及废水回用 ★ 其他行业所需的高纯水制备 北京电镀涂装用**纯水设备,北京半导体用水设备,北京晶片切割用高纯水设备